引言
决定现代微芯片精度和性能的最关键步骤是什么？那就是光刻。随着半导体器件变得越来越小、越来越复杂，光刻已成为集成电路 (IC) 制造工艺的核心。这项关键技术能够将复杂的电路图案转移到硅晶圆上，从而定义驱动从智能手机到超级计算机等各种设备的关键尺寸。
然而，随着芯片复杂度的不断提高，制造商如何满足对超高分辨率和精度的需求？先进的光刻设备应运而生。这些工具不仅负责实现尖端芯片架构，还负责降低成本并提高全球半导体晶圆厂的生产效率。
在本文中，您将发现2025 年十大光刻设备制造商。从 EUV 先驱到封装和电子束专家，这些公司构成了芯片制造生态系统的支柱。每家公司在全球供应链中都扮演着独特且至关重要的角色。
1. ASML（荷兰）
ASML 是光刻设备领域无可争议的全球领导者，也是现代半导体行业的基石。该公司成立于 1984 年，总部位于荷兰费尔德霍芬，数十年来在摩尔定律的实现中发挥着关键作用。 ASML 专注于开发和制造用于生产纳米级精度集成电路的先进光刻系统。
该公司的旗舰产品包括极紫外 (EUV) 和深紫外 (DUV) 光刻系统。尤其是 EUV，它能够创建 5 纳米及以下先进节点所需的超精细图案，彻底改变了芯片制造。ASML 的 DUV 平台对于成熟和主流节点的大批量生产也至关重要。
ASML 为所有主要的半导体代工厂提供其尖端设备，包括台积电、三星和英特尔。该公司因其持续创新而获得认可，其里程碑包括首次大批量 EUV 出货，以及在光源技术、光学元件和套刻精度方面的持续突破。
ASML 公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.asml.com |
| 业务类型 | 光刻设备制造商 |
| 地点（总部） | 荷兰费尔德霍芬 |
| 年份成立于 | 1984 |
| 主要市场 | 全球（主要包括台湾、韩国、美国、欧洲、中国） |
2. 尼康株式会社（日本）
尼康株式会社是一家以其光学技术而闻名的全球知名品牌，自20世纪80年代以来一直是半导体光刻领域的领军企业。尼康总部位于日本东京，凭借其在精密光学和成像系统方面的专业知识，进军半导体设备市场。数十年来，公司开发了广泛的深紫外 (DUV) 光刻解决方案，支持 i-line、KrF 和 ArF 曝光技术。
尼康的光刻设备在存储器和逻辑芯片的生产中发挥着至关重要的作用，尤其是在成熟的技术节点上。其系统因其高可靠性、稳定的套刻性能和长期运行效率而备受赞誉。这些特性使得尼康工具在成本效益和良率稳定性至关重要的制造环境中尤其有价值，例如在汽车、工业和物联网应用的传统芯片生产中。
该公司还以强大的售后支持和长期服务能力而闻名，这使得其解决方案成为寻求长寿命和稳定性能的晶圆厂的理想选择。
尼康公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.nikon.com |
| 业务类型 | 光刻设备制造商 |
| 地点（总部） | 日本东京 |
| 成立年份 | 1917 |
| 主要市场 | 日本、韩国、台湾、中国大陆、美国、欧洲 |
3. 佳能公司（日本）
佳能公司，这个名字几乎就是成像和光学技术的代名词，其半导体设备部门在半导体制造领域也占据着重要地位。佳能公司成立于1937年，总部位于东京，并于20世纪70年代开始生产光刻设备。凭借其在精密光学领域的深厚积累，佳能以提供专为专业和成熟节点应用量身定制的高性能光刻系统而享有盛誉。
佳能的主要产品专注于i-line 和 KrF 光刻技术，其产品系列专为功率器件、MEMS（微机电系统）、显示驱动器以及基于成熟工艺节点构建的其他组件而设计。与尖端 EUV 工具不同，佳能的系统注重成本效益、更小的占地面积和易于使用，使其成为洁净室空间有限或预算受限的制造商的理想选择。
佳能的光刻解决方案因其耐用性、稳定的套刻性能和紧凑的系统设计而备受推崇，可帮助半导体晶圆厂在传统和利基应用中优化产量和效率。
佳能公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://global.canon/ |
| 类型业务 | 光刻设备制造商 |
| 地点（总部） | 日本东京 |
| 成立年份 | 1937 |
| 主要市场 | 日本、中国大陆、台湾、韩国、美国、欧洲 |
4. 上海微电子装备有限公司（SMEE，中国）
上海微电子装备有限公司（SMEE）是中国领先的半导体光刻设备供应商。SMEE成立于2002年，总部位于上海，其成立的目标是实现关键半导体制造技术的本地化。面对全球供应链挑战，中国正致力于技术自力更生，SMEE 在支持中国实现半导体自主化目标方面发挥着战略性作用。
SMEE 专注于DUV 光刻系统，包括KrF（248 纳米）、ArF（193 纳米）和 ArF 浸没式扫描光刻机，旨在满足从 90 纳米到 28 纳米节点的集成电路生产需求。尽管 SMEE 的技术能力仍落后于 EUV 光刻机，但其设备对于国内逻辑芯片、显示驱动 IC、MEMS 和电源管理 IC 的生产至关重要。公司在本地研发、洁净室制造以及中国自主研发子系统集成方面取得了稳步进展。
SMEE持续推进本地化进程，重点在光源、平台和软件等核心模块的国产化开发，为未来实现自主研发铺平道路。
上海微电子装备股份有限公司 (SMEE) 信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | http://www.smee.com.cn |
| 业务类型 | 光刻设备制造商 |
| 地点（总部） | 中国上海 |
| 成立年份 | 2002 |
| 主要市场 | 中国大陆，并在亚太地区逐渐扩张 |
5. Ultratech（美国，Veeco Instruments 旗下公司）
Ultratech 现隶属于Veeco Instruments Inc.，长期以来一直被公认为先进封装光刻和激光加工系统领域的先驱。Ultratech 成立于美国，以其先进的 1X 步进光刻机和激光尖峰退火 (LSA) 系统而闻名。 2017年，该公司被Veeco Instruments收购，增强了Veeco在后端半导体制造方面的能力。
Ultratech主要专注于先进封装应用的后端光刻，包括扇出型晶圆级封装 (FOWLP)和其他异构集成工艺。其设备以其经济高效的微缩、精细的套刻控制和卓越的焦深而闻名，这些对于2.5D和3D集成至关重要。随着系统扩展越来越依赖于超越传统前端节点缩小的创新，Ultratech 的设备在推动系统级封装 (SiP) 技术的未来发展方面发挥着至关重要的作用。
公司对封装光刻技术创新的持续投资，使其成为全球半导体晶圆厂和外包封装测试 (OSAT) 供应商的首选合作伙伴。
Ultratech (Veeco Instruments) 信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.veeco.com |
| 业务类型 | 半导体设备制造商（先进封装与激光系统） |
| 地址（总部） | 美国纽约州普莱恩维尤 |
| 成立年份 | 1979 年（Ultratech），2017 年被 Veeco 收购 |
| 主要市场 | 北美、亚太地区、欧洲 |
6. SÜSS MicroTec（德国）
SÜSS MicroTec 是半导体设备行业享有盛誉的品牌，专注于掩模对准器、投影光刻系统和晶圆键合工具。该公司成立于德国，通过支持200 毫米以下晶圆加工并提供针对MEMS、LED、化合物半导体和光子学应用的定制解决方案，在全球享有盛誉。其技术广泛应用于研究机构、代工厂以及中小型生产线。
SÜSS MicroTec 的产品系列包括手动至全自动掩模对准机、投影光刻工具、无掩模曝光系统以及先进的键合对准机。该公司在无掩模光刻和基板级集成领域的创新也处于领先地位，使其成为柔性、专业化和异构集成工艺的理想选择。 SÜSS MicroTec 以其精确性、可靠性和灵活性而闻名，是无需更大晶圆尺寸和先进光刻技术的应用领域的首选解决方案提供商。
SÜSS MicroTec 公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.suss.com |
| 业务类型 | 半导体设备制造商（光刻和键合工具） |
| 地点（总部） | 巴伐利亚州加兴德国 |
| 成立年份 | 1949 |
| 主要市场 | 欧洲、亚太地区、北美 |
7. EV 集团（EVG，奥地利）
EV 集团 (EVG) 是晶圆键合、光刻和纳米压印光刻 (NIL) 解决方案领域的全球技术领导者。该公司总部位于奥地利，成立于 20 世纪 80 年代初，现已成为先进封装、MEMS、光子学和 3D 集成技术领域的重要参与者。 EVG 的创新支持下一代半导体制造，尤其是在需要异构集成和超精密结构的应用领域。
EVG 的产品组合包括NIL 系统、掩模对准器、晶圆键合器和计量工具，所有这些产品均专为高吞吐量和高分辨率处理而设计。该公司以其在纳米压印光刻技术领域的先驱地位而闻名，该技术可实现 10 纳米以下的图案化，并被视为超越传统光学光刻技术的可行途径。 EVG 高度重视研发合作和客户支持，在3D-IC、光互连、生物传感器和其他高增长领域发挥着战略性作用。
EV 集团公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.evgroup.com |
| 业务类型 | 半导体设备制造商（晶圆键合和光刻） |
| 地点（总部） | 圣路易斯。奥地利弗洛里安因河畔 |
| 成立年份 | 1980 |
| 主要市场 | 欧洲、亚太地区、北美 |
8. NuFlare Technology（日本）
NuFlare Technology 是东芝公司的全资子公司，专门从事电子束（e-beam）光刻系统，尤其擅长用于先进半导体制造的光掩模写入技术。 NuFlare 成立于 21 世纪初，总部位于日本横滨，现已发展成为全球领先的掩模写入工具供应商之一，其产品对于制造 10 纳米以下和 EUV（极紫外）光刻技术级别的掩模版至关重要。
该公司的核心产品线包括 EBM 系列掩模写入机，该系列设备精度高、写入速度快，并具有先进的分辨率控制，是高端 逻辑和存储芯片生产 中不可或缺的设备。NuFlare 在光掩模供应链中发挥着至关重要的作用，支持包括 5 纳米及以下 在内的最先进工艺节点。他们的系统被全球代工厂和集成设备制造商 (IDM) 广泛使用，支持光学和 EUV 光刻掩模版生产需求。
NuFlare Technology 公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.nuflare.co.jp |
| 业务类型 | 半导体设备制造商（电子束掩模版写入系统） |
| 所在地（总部） | 日本神奈川县横滨市日本 |
| 成立年份 | 2002 |
| 主要市场 | 日本、韩国、台湾、美国、欧洲 |
9. JEOL 株式会社（日本）
JEOL 株式会社总部位于日本东京，是全球科学和计量设备领域的领导者，尤其以其在电子束 (e-beam) 光刻系统方面的创新而闻名。JEOL 成立于 1949 年，在为研究和学术界开发高分辨率工具方面拥有丰富的经验。其电子束光刻系统广泛应用于纳米技术研发、半导体原型设计和材料科学领域，服务于世界各地的大学、国家实验室和先进研究中心。
JEOL 的直写电子束系统专为纳米级精密图案化而设计，可灵活处理各种材料和结构。公司注重系统稳定性、电子束精度以及直观的软件界面，以支持复杂的图案设计。这些系统非常适合非生产环境，助力纳米制造、量子器件、微机电系统 (MEMS) 和光子学领域的前沿探索。 JEOL 在学术合作方面根基深厚，是高等教育和科学发展的基石。
JEOL 株式会社公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.jeol.co.jp |
| 业务类型 | 科学和半导体设备制造商 |
| 地点（总部） | 日本东京 |
| 年份成立于 | 1949年 |
| 主要市场 | 日本、美国、欧洲、韩国、学术和研究领域 |
10. Vistec Electron Beam（德国）
Vistec Electron Beam GmbH 是高精度电子束 (e-beam) 直写光刻系统的领先供应商，以其在纳米技术、半导体研发和无掩模图案化领域的应用而闻名。 Vistec 总部位于德国耶拿，其前身可追溯至 20 世纪 80 年代，在先进纳米级结构制造领域占据着专业地位。
Vistec 的旗舰产品线包括 EBPG 系列，该系列为小批量生产、学术研究和开发环境提供直写光刻解决方案。这些系统以其超高分辨率、光束稳定性和亚纳米精度而闻名，是先进半导体器件、纳米光子元件和量子元件原型设计的理想选择。公司与全球领先的研究机构和国家实验室密切合作，将自己定位为下一代材料和器件研究领域值得信赖的合作伙伴。
Vistec 电子束公司信息
| 信息 | 价值 |
|---|---|
| 网站 | https://www.vistec-semi.com |
| 业务类型 | 半导体设备制造商（电子束直写系统） |
| 地点（总部） | 德国耶拿，图林根州，德国 |
| 成立年份 | 20 世纪 80 年代（当前架构自 2004 年起） |
| 主要市场 | 欧洲、北美、亚太地区、研究与学术界 |
结论
ASML 在 EUV 光刻技术方面依然保持领先地位，为顶级晶圆厂提供先进工艺节点。尼康和佳能继续以 DUV 解决方案服务成熟市场和中端市场，而 SÜSS MicroTec 和 EV Group 则在 MEMS、NIL 和 3D 集成领域处于领先地位。 JEOL、NuFlare 和 Vistec 为研究和掩模制造带来了关键的电子束技术，而 Ultratech 和 Veeco 等公司则提供支持高效 LED、先进封装和化合物半导体生产的利基技术。
光刻系统的多样性——EUV、DUV、NIL 和电子束——确保了生态系统能够满足逻辑、存储器、专用器件以及下一代封装的需求。
展望未来，光刻领域将在分辨率、套刻精度和灵活性方面实现更多融合，尤其是在异构集成、AI 芯片和光子学需求不断增长的背景下。随着全球供应链的成熟，这些专业公司之间的协同创新仍将是开启半导体性能下一个前沿的关键。
