一、简介
无锡君睿科技有限公司（JUNR）成立于2007年，总部位于中国江苏省，是一家值得信赖的二手及翻新半导体设备供应商，专注于光刻设备。我们服务于晶圆代工厂、PSS制造商和CP测试机构，提供各种设备配件、耗材以及专家级技术服务，包括拆卸、安装、翻新和维护。
JUNR在中国大陆和香港均设有运营机构，并与美国、日本、韩国、台湾和新加坡的领先设备和零部件供应商建立了牢固的合作伙伴关系。这种全球合作使我们能够及时提供高质量的解决方案，并具有强大的性价比优势。作为 SEMI 的活跃成员，我们深入参与行业标准和趋势。
本文从供应链中服务提供商的角度，对全球十大光刻公司进行了技术概述。无论您是在寻求先进的工具还是成熟节点的设备，我们都诚邀您联系 JUNR 以获得专业的支持和合作。
二、光刻技术在半导体制造中的重要性
光刻是半导体器件制造的基石。它是利用光将电路图案转移到晶圆上的工艺，在定义特征尺寸、层对准和整体器件性能方面发挥着关键作用。
随着半导体技术规模缩小到 10 纳米以下节点，光刻方法也发生了显著的变化——从传统的 i-line 和 KrF 系统发展到 ArF 浸没式和极紫外 (EUV) 光刻。每种技术在分辨率、吞吐量和成本方面都具有独特的优势，具体取决于制造节点和应用。
除了逻辑和存储器制造之外，光刻技术还支持先进封装、MEMS 和化合物半导体生产，在这些领域，专用设备和成熟节点工具仍然至关重要。了解领先光刻供应商的能力和重点领域有助于制造商做出明智的设备投资决策，尤其是在考虑翻新系统时。
三、十大光刻公司（详细资料）
光刻设备市场高度专业化，由少数几家推动技术创新和供应链影响力的全球领先企业主导。这些公司的技术重点差异很大——从用于先进逻辑芯片的极紫外 (EUV) 系统到成熟节点的深紫外 (DUV) 工具以及利基电子束 (E-beam) 或纳米压印系统。以下是根据技术贡献、行业相关性和全球影响力精心挑选出的全球十大最具影响力的光刻设备制造商名单。
1. ASML（荷兰）
ASML 是半导体光刻技术领域无可争议的领导者，尤其以其在 EUV 光刻领域的独家技术而闻名。ASML 总部位于荷兰费尔德霍芬，与台积电、英特尔和三星等顶级芯片制造商密切合作。其 EUV 系统对于 7nm 以下制造节点至关重要，而其 DUV 浸没系统则广泛应用于成熟和中级节点。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| ASML | 1984 | EUV 系统独家供应商；全球领先的深紫外（DUV）浸没式光刻技术供应商 | https://www.asml.com |
2.尼康公司（日本）
尼康是深紫外 (DUV) 光刻领域的主要参与者，尤其以 ArF 和 KrF 步进光刻机和扫描仪系统而闻名。尽管由于 ASML 在 EUV 领域的主导地位，尼康逐渐缩减了在尖端节点的份额，但在图像传感器和 MEMS 等传统市场和专业市场中仍保持着竞争力。
公司概况：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| 尼康公司 | 1917 | 率先推出 ArF/ArF 浸没式系统；在KrF步进光刻机领域拥有深厚的经验 | https://www.nikonprecision.com |
3. 佳能公司（日本）
佳能专注于成熟节点光刻和纳米压印光刻 (NIL)。其步进式光刻机广泛应用于 i-line 和 KrF 应用，尤其是在化合物半导体和显示器制造领域。佳能还投资了 NIL 技术，将其作为 EUV 的潜在经济高效的替代方案，用于某些 20 纳米以下的用例。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| 佳能公司 | 1937 | KrF/i-line 步进式光刻机领域的领导者；积极参与纳米压印研发 | https://global.canon/en/product/indtech/semicon/ |
4. Veeco Instruments Inc. / Ultratech（美国）
Ultratech 于 2017 年被 Veeco 收购，是先进封装光刻系统的主要供应商。该公司专注于 3D IC、扇出型晶圆级封装 (FOWLP) 和高亮度 LED 光刻技术。他们的设备广泛应用于后端半导体制造。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻技术成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| Veeco Instruments Inc. | 1945年（1979年更名为Ultratech） | 先进封装和FOWLP光刻技术的行业领导者 | https://www.veeco.com |
5. Onto Innovation（美国）
Onto Innovation 由 Rudolph Technologies 和 Nanometrics 合并而成，提供对封装和工艺控制至关重要的光刻对准系统和计量工具。虽然该公司并非一家纯粹的步进式光刻机制造商，但在后端光刻和检测领域发挥着重要作用。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| Onto Innovation | 2019年（Rudolph 成立于1940年） | 在光刻对准和封装计量方面实力雄厚 | https://www.ontoinnovation.com |
6. SMEE（上海微电子装备有限公司，中国）
SMEE是中国最先进的国产光刻设备供应商。尽管目前仅限于KrF和i线曝光系统，但SMEE在ArF浸没式曝光系统开发方面正在取得重大进展。它为中国自主创新计划中的晶圆代工厂和 OSAT 厂商提供服务。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻技术成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| SMEE | 2002 | 中国领先的 KrF/i-line 供应商；开发ArF浸没式设备 | http://www.smee.com.cn |
7. EV集团（奥地利）
EV集团专注于先进封装、MEMS和化合物半导体器件的光刻技术。该公司是纳米压印光刻 (NIL)、晶圆键合和掩模对准系统领域的全球领导者。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| EV 集团 (EVG) | 1980 | NIL 和晶圆级封装光刻领域的全球领导者 | https://www.evgroup.com |
8. SÜSS MicroTec（德国）
SÜSS MicroTec 为 MEMS、LED 和先进封装市场开发掩模对准机和光刻设备。其系统支持高精度、小批量生产。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻技术成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| SÜSS MicroTec | 1949 | 在掩模版对准器和高精度封装光刻技术方面实力雄厚 | https://www.suss.com |
9. JEOL 株式会社（日本）
JEOL 是电子束光刻 (EBL) 领域的先驱，提供用于研发、光掩模生产和纳米技术原型制作的工具。其系统深受研究机构和大学的欢迎。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻技术成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| 日本电子株式会社 | 1949 | 纳米制造和研发领域电子束光刻技术的领导者 | https://www.jeol.com |
10. Raith GmbH（德国）
Raith 专注于纳米光刻和电子束光刻工具。它服务于纳米技术研究的利基市场，提供用于高分辨率图案化和直写应用的系统。
公司简介：
| 公司名称 | 成立时间 | 主要光刻成就 | 网站 |
|---|---|---|---|
| Raith GmbH | 1980 | 专注于高分辨率电子束光刻系统 | https://www.raith.com |
四、结论
光刻技术仍然是半导体制造中最关键、资本最密集的环节。尽管 ASML 在先进的 EUV 技术方面处于领先地位，但尼康、佳能和 EVG 等其他公司仍在从传统节点生产到先进封装、MEMS 和研发驱动的纳米光刻等各种应用领域发挥着不可或缺的作用。
与此同时，全球供应链正在经历结构性变化。地缘政治变化、本地化生产需求的不断增长以及传统节点应用的增长，使得人们对全新设备的经济高效替代方案的兴趣日益浓厚。在此背景下，二手和翻新的光刻工具——如果采购和维护得当——将为众多晶圆厂和封装线提供高效、可靠且经济可行的解决方案。
无锡君睿科技有限公司深知光刻工具部署的技术和物流挑战。凭借超过 15 年的经验、国际采购网络和专业的技术团队，我们致力于帮助客户以合适的成本找到合适的设备，并提供从安装到售后维护的全方位支持。
如果您的晶圆厂或设施正在寻求可靠的高性能光刻解决方案——无论是用于前端还是后端应用——我们都欢迎您联系俊尔进行咨询和合作。我们将携手打造更智能、更可持续的未来半导体产能。
